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Techniques for washing the supports used for copper chloride crystallisation with additive

Jean-Georges Barth, Jean Roussaux, Andreas Wilkens , Michael Jacobi
Elemente der Naturwissenschaft 98, 2013, S. 5-19 | DOI: 10.18756/edn.98.5
Article | Sprache: English | €6.00
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Zusammenfassung:

Es werden zwei Waschverfahren für Platten, die zur Kupferchloridkristallisation im Beisein eines Zusatzes gebraucht werden, vorgestellt. Das eine benutzt zunächst ein Bad mit einer verdünnten Lösung eines Reinigungsmittel (RBS), das andere lediglich zweimaliges Waschen in kochendem destilliertem Wasser. Die Anfangszeiten der Kristallisation (t1) sind wenig gestreut, aber ihre Mittelwerte unterscheiden sich deutlich je nach Waschmethode. Die Streuungsindices, die angeben wie viel Schalen im Bereich von ± 30 min um die Mediane t M (Ni), oder im Bereich von 60 min nach Kristallisationsbeginn in einer Serie von Schalen (N60), sind hoch. Der Unterschied zwischen den Waschmethoden ist nicht signifikant für Ni, schwach signifikant für N60. Die zwei Methoden sind gleichwertig in Bezug auf die Qualität der Kristallisationsbilder und deren Lesbarkeit. Die Textur-Kristalle sind jedoch feiner mit der ersten Methode; die Ursache dafür sind RBS-Rückstände, die mit der Tropfbildmethode nachgewiesen wurden. Beide Waschverfahren sind besonders einfach und schnell und können die Vorbereitung der Platten für die Kristallisation sehr erleichtern.

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